控制的粉塵處理技術(shù)措施有這些
熙天時(shí)環(huán)保粉塵控制的粉塵處理技術(shù)措施工作，可歸納為防塵的“八字方針”中的“革、水、密、風(fēng)”四個(gè)字。是粉塵處理控制的技術(shù)措施全部精髓內(nèi)容。
1“革”：即“工藝改革”，對(duì)生產(chǎn)工藝中使用的原(輔)材料及添加劑，以低硅替代高硅、無塵替代有塵。
2“水”：即“濕式作業(yè)”，其適用于在工藝上可行的濕式控塵方式的作業(yè)。濕式的作用是通過灑水噴霧的原理，以控制粉塵的彌散速度和距離。降塵、抑塵灑水噴霧的方式，霧滴應(yīng)小于0.1毫米。
3“密”：即“密閉塵源”，通常對(duì)無法濕式控塵的工藝，采取密閉塵源的方式，進(jìn)行控塵的作業(yè)。對(duì)塵源的密閉效果要好，要減少漏風(fēng)的縫隙和孔洞，盡可能減少觀察窗、操作口、檢修門，在可能的情況下，保證被密封的內(nèi)部呈負(fù)壓狀。
4“風(fēng)”：即“通風(fēng)除塵”，這是粉塵處理控制的主要技術(shù)措施，由密閉(捕截作用)塵源的吸塵罩、風(fēng)管、除塵風(fēng)機(jī)三個(gè)部分組成。
一、吸塵罩：吸塵罩分面和局部兩種
?、倜嫖鼔m罩即無開口的“密閉塵源內(nèi)部呈負(fù)壓狀”，并要求保持一定的風(fēng)速(視粉塵性質(zhì)、生產(chǎn)規(guī)模而定，一般要求0.5~10米/秒);
②局部吸塵罩的衛(wèi)生學(xué)要求：a.盡可能接近塵源、并加設(shè)圍擋;b.吸塵罩的形狀和大小與粉塵彌散區(qū)域的范圍相宜;c.罩口迎對(duì)含塵氣流的主導(dǎo)方向;d.吸塵氣流的方向應(yīng)避開操作者的呼吸帶位;e.捕截粉塵的負(fù)壓控制風(fēng)速符合要求。
二、風(fēng)管：
風(fēng)管的衛(wèi)生學(xué)要求是簡(jiǎn)單、宜小、截面積盡可能圓形，無直角、好彎(夾)角小于30度，法蘭相接，與吸塵罩、除塵風(fēng)機(jī)的相接距離不宜太長(長距離應(yīng)在中段設(shè)沉降筒)，支管內(nèi)風(fēng)速根據(jù)捕截粉塵的性質(zhì)、要求達(dá)到10~20米/秒。
三、除塵風(fēng)機(jī)：
根據(jù)總阻力，總風(fēng)量與風(fēng)壓應(yīng)有10~15%的余量，并與電機(jī)相匹配?！巴L(fēng)除塵”根據(jù)作業(yè)現(xiàn)場(chǎng)的情況，又可分為局部與面兩種。
四、局部通風(fēng)除塵：
?、僖淮瓮L(fēng)除塵作業(yè)現(xiàn)場(chǎng)的局部吸塵罩盡限于塵源彌散的開口區(qū)域。
?、诙瓮L(fēng)除塵指對(duì)彌散濃度較大的塵源，當(dāng)一次通風(fēng)的除塵效果無法滿足作業(yè)現(xiàn)場(chǎng)的環(huán)境衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，需要在塵源彌散的更廣闊區(qū)域內(nèi)設(shè)置吸塵罩的二次通風(fēng)除塵方法，例高爐出鐵口的二次通風(fēng)除塵，就是利用出鐵口上方的平臺(tái)垂幕作為吸塵罩達(dá)到二次通風(fēng)除塵的目的。
五、面通風(fēng)粉塵處理
主要針對(duì)在狹小的車間，作業(yè)現(xiàn)場(chǎng)的有害因素濃度低、源點(diǎn)分散、局部通風(fēng)除塵難以達(dá)到效果時(shí)，采用的方法。
熙天時(shí)環(huán)保擁有多年行業(yè)經(jīng)驗(yàn)，專注于大型工廠廢氣粉塵處理，耐用不貴，快速交付，環(huán)保達(dá)標(biāo)。擁有乙級(jí)環(huán)保設(shè)計(jì)和工程資質(zhì)以及好的的設(shè)備制造車間和熟練的施工隊(duì)伍。
